01光刻機(jī)市場(chǎng)數(shù)據(jù)分析

光刻機(jī)毫無(wú)疑問(wèn)是半導(dǎo)體器件制造中最重要的設(shè)備。其重要性不僅僅局限于工藝技術(shù)層面，還反映在其數(shù)量和產(chǎn)能的緊密關(guān)系上。

上圖是ASML公布過(guò)的一張不同產(chǎn)片和工藝節(jié)點(diǎn)在特定產(chǎn)能下對(duì)應(yīng)需要的各種光刻機(jī)數(shù)量。雖然實(shí)際上由于不同的晶圓廠(chǎng)的技術(shù)路線(xiàn)和水平不同會(huì)造成單位產(chǎn)能所需的設(shè)備數(shù)量會(huì)有一定差異，但在數(shù)量級(jí)層面上這個(gè)數(shù)據(jù)具有非常高的參考性。所以當(dāng)我們了解到各類(lèi)光刻機(jī)的具體出貨數(shù)量，就可以大體推算出市場(chǎng)產(chǎn)能的變化情況。

目前全球能夠提供前道制造用光刻機(jī)的供應(yīng)商一共只有三家：ASML、NIKON和CANON。所以我們只要統(tǒng)計(jì)這三家季報(bào)里公布的數(shù)據(jù)，就可以具體了解全球前道光刻機(jī)的出貨量(見(jiàn)下圖)：

由圖可見(jiàn)，2017年以后，全球光刻機(jī)的出貨量(臺(tái)數(shù))明顯持續(xù)增加，而且從數(shù)量上看，EUV和KrF的增量最為明顯。

參考上面ASML的產(chǎn)能/設(shè)備數(shù)量對(duì)應(yīng)關(guān)系圖，我們可以明確感知到2017年以后先進(jìn)工藝的迅猛發(fā)展態(tài)勢(shì)。這和我們之前整理的其它數(shù)據(jù)反映的現(xiàn)象邏輯上是非常吻合的。尤其是通過(guò)EUV光刻機(jī)的出貨數(shù)量，我們可以比較容易地推算7nm及以下先進(jìn)制程的產(chǎn)能擴(kuò)張情況，從而幫助我們了解和預(yù)測(cè)未來(lái)高端器件市場(chǎng)的走勢(shì)。

上圖是三家供應(yīng)商分別的各類(lèi)機(jī)臺(tái)具體出貨數(shù)量統(tǒng)計(jì)。由圖可知：

ASML：目前已經(jīng)基本壟斷了ArF Dry、ArF i和EUV(100%)的市場(chǎng)。后續(xù)只要關(guān)注和研究其財(cái)報(bào)數(shù)據(jù)就可以幫助我們基本了解整個(gè)半導(dǎo)體市場(chǎng)的變化趨勢(shì)。

NIKON：雖然理論上有除了EUV以外的所有類(lèi)型光刻機(jī)產(chǎn)品，但近年來(lái)其ArF相關(guān)的高端產(chǎn)品出貨量日趨萎縮，幾乎沒(méi)有市場(chǎng)份額。(其出貨的ArF光刻機(jī)里有相當(dāng)一部分還是翻新機(jī))

CANON：目前產(chǎn)品完全集中于特定工藝領(lǐng)域的i-Line和KrF設(shè)備。出貨量增長(zhǎng)趨勢(shì)不錯(cuò)，但沒(méi)有任何高端工藝用設(shè)備。

基于以上因素，所以我們?cè)谘芯堪雽?dǎo)體市場(chǎng)的時(shí)候，可以基本集中于ASML公司一家的數(shù)據(jù)：

由上圖可見(jiàn)，ASML目前幾乎一半以上的營(yíng)收來(lái)自于EUV光刻機(jī)。其不僅僅在數(shù)量上不斷增加，而且隨著技術(shù)和性能(套刻精度、生產(chǎn)效率等)的提升，其機(jī)臺(tái)的單價(jià)也迅速增長(zhǎng)，幫助EUV成為公司最主要的利潤(rùn)來(lái)源。

不過(guò)不論如何，ASML的光刻機(jī)營(yíng)收占全球所有半導(dǎo)體設(shè)備市場(chǎng)的比例沒(méi)有明顯長(zhǎng)期變化趨勢(shì)，整體維持在10~20%區(qū)間。而且這一比例在未來(lái)較長(zhǎng)時(shí)間里也不會(huì)有其它變化。三家供應(yīng)商主要機(jī)臺(tái)型號(hào)及參數(shù)表