去年底臺積電宣布3nm量產(chǎn),預(yù)計今年年中之后在終端層面開始大規(guī)模應(yīng)用。
隨后有業(yè)內(nèi)專家透露,臺積電3nm的良率可達80%,非常可觀。
然而,提前半年投產(chǎn)3nm的三星,則有些尷尬,據(jù)說良率僅20%。這個表現(xiàn),難怪沒有大廠敢下單。
雖說三星上馬了GAA晶體管,技術(shù)難度高算是情有可原,然而和臺積電差距這么大顯然不是長久之計。
據(jù)DT報道,三星正在調(diào)整的一個優(yōu)化方案是,在3nm EUV光刻中引進穿透率達90%的掩模保護膜,供應(yīng)商是本土公司S&S Tech。
EUV光刻與此案的ArF(氟化氬)曝光設(shè)備不同,光反射到鏡子后,再到晶片,因此光源損失很大。要想使光源損失降到最低,必須使用穿透率超過90%的EUV用保護膜,從而保護光罩。
三星這一調(diào)整,能否有效提高3nm GAA芯片的良率,還有待檢驗。
中傳動網(wǎng)版權(quán)與免責(zé)聲明:
凡本網(wǎng)注明[來源:中國傳動網(wǎng)]的所有文字、圖片、音視和視頻文件,版權(quán)均為中國傳動網(wǎng)(www.connectcrack.com)獨家所有。如需轉(zhuǎn)載請與0755-82949061聯(lián)系。任何媒體、網(wǎng)站或個人轉(zhuǎn)載使用時須注明來源“中國傳動網(wǎng)”,違反者本網(wǎng)將追究其法律責(zé)任。
本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明其他來源的稿件,均來自互聯(lián)網(wǎng)或業(yè)內(nèi)投稿人士,版權(quán)屬于原版權(quán)人。轉(zhuǎn)載請保留稿件來源及作者,禁止擅自篡改,違者自負版權(quán)法律責(zé)任。
如涉及作品內(nèi)容、版權(quán)等問題,請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利。
下一篇:
?
聯(lián)發(fā)科發(fā)布物聯(lián)網(wǎng)芯片Genio 700:采用6nm工藝?
Mali-G57 MC3 GPU圖形核心,支持4K60、FHD60的高清高刷顯示輸出、H.264/HEVC視頻編碼、H.264/HEVC/VP9/AV1視頻解碼,最高視頻播放分辨率4K75,最高視頻錄制分...