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磁控濺射儀
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磁控濺射儀

產(chǎn)品型號(hào)

廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商

公司名稱北京博遠(yuǎn)微納科技有限公司

地       址北京市海淀區(qū)龍崗路51號(hào)院6號(hào)樓2層58室

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聯(lián)系人:江澤普 010-80456071-

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企業(yè)信息

普通會(huì)員8

公司類型: 生產(chǎn)商

主運(yùn)營:小型離子濺射儀,噴金儀,真空鍍膜機(jī),磁控濺射儀,掃...

所在地區(qū):市轄區(qū)

注冊(cè)時(shí)間:2018-08-28

產(chǎn)品介紹

ETD-900M 型離子濺射儀外觀亮麗做工精致磁控濺射是物理氣相沉積(Physical Vapor Deposition,PVD)的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等多材料,且具有設(shè)備簡(jiǎn)單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn),磁控濺射法更是實(shí)現(xiàn)了高速、低溫、低損傷。因?yàn)槭窃诘蜌鈮合逻M(jìn)行高速濺射,必須有效地提高氣體的離化率。磁控濺射通過在靶陰極表面引入磁場(chǎng),利用磁場(chǎng)對(duì)帶電粒子的約束來提高等離子體密度以增加濺射率。

      配有高位定性的飛躍真空泵

 

 

 

濺射氣體 濺射靶材 濺射電流 濺射速率 樣品倉尺寸 樣品臺(tái)尺寸 工作電壓
根據(jù)實(shí)驗(yàn)?zāi)康目商砑託鍤猓?氮?dú)獾?br> 多種氣體。  標(biāo)配靶材為 金靶,
厚度為
50mm*0.1mm。也可根據(jù)實(shí)際情況配備銀靶、鉑靶等。

最大電流

50mA,最大工作電流30mA

優(yōu)于60nm/min

直徑160mm,
高120mm

樣品臺(tái)尺寸可安裝直徑50mm和直徑70mm的樣品臺(tái),也可根據(jù)自身要求定制樣品臺(tái)

220V

(可做110V),

50HZ

 

 

需要鍍膜的樣品

主要包括生物樣品,塑料樣品等。S EM中的電子束具有較高能量,在與樣品的相互作用過程中,它以熱的形式將部分能量傳遞給樣品。如果樣品是對(duì)電子束敏感的材料,那這種相互作用會(huì)破壞部分甚至整個(gè)樣品結(jié)構(gòu)。這種情況下,用一種非電子束敏感材料制備的表面鍍層就可以起到保護(hù)層的作用,防止此類損傷;由于樣品不導(dǎo)電,其表面帶有“電子陷阱”,
這種表面上的電子積累被稱為“充電”。
為了消除荷電效應(yīng),
可在樣品表面鍍一層
金屬導(dǎo)電層,鍍層
作為一個(gè)導(dǎo)電通道,
將充電電子從材料
表面轉(zhuǎn)移走,消
除荷電效應(yīng)。在掃
描電鏡成像時(shí),
濺射材料增加信噪比,
從而獲得更好的成像質(zhì)量。
非導(dǎo)電材料實(shí)驗(yàn)電
極制作觀察導(dǎo)電特性
 

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