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GDM300晶圓研磨（Wafer Grinding）衡鵬
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GDM300晶圓研磨（Wafer Grinding）衡鵬
—采用全自動系統(tǒng)，從后磨到貼裝的連續(xù)過程
GDM300晶圓研磨（Wafer Grinding）特長：
采用全自動系統(tǒng)，從后磨到貼裝的連續(xù)過程，可研磨至25um厚度。
2個磨頭階段，產(chǎn)量幾乎是1個磨頭系統(tǒng)的兩倍。
內(nèi)置修邊系統(tǒng)可作為薄型晶圓加工的選擇。
雙指標(biāo)體系，拋光階段和研磨階段完全分離，滿足TSV和MEMS工藝所需的清潔。
超亮度小于Ra1A，可超鏡面。
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衡鵬供應(yīng)
GNX200BP晶圓研磨/晶圓減薄/晶圓拋光/晶圓背拋/Wafer Grinding
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