中微5nm刻蝕機(jī)通過臺積電認(rèn)證
時間:2018-12-18
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導(dǎo)語:5納米,相當(dāng)于頭發(fā)絲直徑(約0.1毫米)的二萬分之一,將成為集成電路芯片上的最小線寬。
5納米,相當(dāng)于頭發(fā)絲直徑(約0.1毫米)的二萬分之一,將成為集成電路芯片上的最小線寬。臺積電計劃明年進(jìn)行5納米制程試產(chǎn),預(yù)計2020年量產(chǎn)。最近,中微半導(dǎo)體設(shè)備(上海)有限公司收到一個好消息:其自主研制的5納米等離子體刻蝕機(jī)經(jīng)臺積電驗(yàn)證,性能優(yōu)良,將用于全球首條5納米制程生產(chǎn)線??涛g機(jī)是芯片制造的關(guān)鍵裝備之一,中微突破關(guān)鍵核心技術(shù),讓“上海制造”躋身刻蝕機(jī)國際第一梯隊。
走進(jìn)位于金橋出口加工區(qū)的中微公司,就要換上公司提供的皮鞋,這家精密制造企業(yè)要求一塵不染。在潔凈室門外,記者看到身穿白色工作服,戴著白帽子、口罩和手套的研發(fā)人員,正在測試一臺大型設(shè)備,它就是全球屈指可數(shù)的5納米刻蝕機(jī)。只見一片片300毫米大硅片被機(jī)械手抓起,放入真空反應(yīng)腔內(nèi),開始了它們的刻蝕之旅?!岸喾N氣體會進(jìn)入真空反應(yīng)腔,經(jīng)過化學(xué)反應(yīng)變成等離子氣體,隨即產(chǎn)生帶電粒子和自由基,與硅片發(fā)生化學(xué)物理反應(yīng)?!敝形⑹紫瘜<摇⒏笨偛媚邎D強(qiáng)說,這些化學(xué)物理反應(yīng)在硅片上開槽打洞,形成令人嘆為觀止的微觀結(jié)構(gòu),一塊指甲蓋大小的芯片可集成60多億個晶體管。
方寸間近乎極限的操作,對刻蝕機(jī)的控制精度提出很高要求??涛g尺寸的大小與芯片溫度一一對應(yīng),中微自主研發(fā)的部件使刻蝕過程的溫控精度保持在0.75攝氏度內(nèi),達(dá)到國際領(lǐng)先水平。氣體噴淋盤是刻蝕機(jī)的核心部件之一,中微和國內(nèi)企業(yè)聯(lián)合開發(fā)出一套創(chuàng)新工藝,用這套工藝制造的金屬陶瓷,其晶粒十分精細(xì)、致密。與進(jìn)口噴淋盤相比,國產(chǎn)陶瓷鍍膜的噴淋盤使用壽命延長一倍,造價卻不到五分之一。
創(chuàng)新成功的秘訣是什么?秘訣之一是超前布局研發(fā)。2004年中微創(chuàng)立時,全球最先進(jìn)的芯片生產(chǎn)線是90納米制程,那時他們就開始研發(fā)40納米刻蝕機(jī),因?yàn)榧呻娐樊a(chǎn)業(yè)技術(shù)迭代很快,超前兩代研發(fā)才能掌握主動權(quán)。擁有國際化團(tuán)隊,也是一個成功原因。經(jīng)過本土培養(yǎng)和海外引進(jìn),中微600多名員工來自十多個國家和地區(qū)。而且公司研發(fā)團(tuán)隊很完整,200多人的專業(yè)覆蓋30多門學(xué)科,為刻蝕機(jī)研發(fā)這一系統(tǒng)工程奠定了基礎(chǔ)。
憑借自主創(chuàng)新,中微已申請1200多件國內(nèi)外專利?!耙?yàn)橛写罅繉@Wo(hù),我們經(jīng)歷4次與發(fā)達(dá)國家企業(yè)的知識產(chǎn)權(quán)訴訟,未嘗敗績?!惫靖笨偛貌軣捝f。如今,中微與泛林、應(yīng)用材料、東京電子、日立4家美日企業(yè)一起,組成了國際第一梯隊,為7納米芯片生產(chǎn)線供應(yīng)刻蝕機(jī)。明年,臺積電將率先進(jìn)入5納米制程,已通過驗(yàn)證的國產(chǎn)5納米刻蝕機(jī)預(yù)計會獲得比7納米生產(chǎn)線更大的市場份額。
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