芯片正在全面走向3D

時間:2022-06-14

來源:Ai芯天下

導(dǎo)語:在芯片從二維走向三維的過程中,出現(xiàn)了很多新技術(shù),這些新技術(shù)的出現(xiàn),不僅突破了某個行業(yè)內(nèi)的瓶頸,也促進(jìn)了半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的繼續(xù)創(chuàng)新。

  前言:

  目前芯片也開始進(jìn)行多方位探索,以尋求更好的方式來提升性能。

  最近這些年芯片正在從二維走向三維世界——芯片設(shè)計、芯片封裝等環(huán)節(jié)都在向3D結(jié)構(gòu)靠攏。

  最早實(shí)現(xiàn)3D化的晶體管

  按照摩爾定律,晶體管的數(shù)量與芯片性能息息相關(guān),晶體管是最早實(shí)現(xiàn)3D化的,在平面晶體管時代,22nm基本就是大家公認(rèn)的極限了,為了突破這個工藝極限,F(xiàn)inFET晶體管誕生了。

  FinFET確切的說,是一個技術(shù)的代稱。世界上第一個3D三維晶體管是由英特爾在2011年5月宣布研制成功,當(dāng)時英特爾稱其為 “Tri-Gate”(三柵極晶體管)。

  早在2002年,英特爾就已經(jīng)提出了相關(guān)技術(shù)專利,花了將近10年完善,并在2011年年底用Tri-Gate技術(shù)量產(chǎn)22nm工藝的新一代處理器lvy Bridge,于2012年初正式發(fā)布。雖然叫法不同,但Tri-Gate的本質(zhì)就是FinFET。

  3D Flash向200層加速

  從時間上看,第一個3D晶體管和第一代3D NAND閃存芯片推出的時間相差無幾。2011年,英特爾推出世界上第一個3D三維晶體管,2012年三星推出第一代3D NAND閃存芯片,也是第一款32層SLC V-NAND SSD——850 PRO。

  最開始是東芝在2008年開發(fā)了3D NAND結(jié)構(gòu)BICS,4年后,三星在2012年推出了第一代3D NAND閃存芯片,隨后,東芝、西部數(shù)據(jù)、美光等存儲大廠接連跟上,拉開了3D NAND 層數(shù)之戰(zhàn)的序幕。

  近日也發(fā)布了業(yè)界首個232層堆棧的 3D NAND Flash芯片,雖然暫時還沒有公布232層3D NAND閃存芯片的具體參數(shù),但可以知道采用的是CuA架構(gòu),初始容量為1Tb(128GB),并預(yù)計在2022年底左右開始量產(chǎn)。

  3D封裝技術(shù)如火如荼

  3D封裝在前段時間也是狠狠火了一把,隨著芯片越來越復(fù)雜,芯片面積、良率和復(fù)雜工藝的矛盾難以調(diào)和,3D封裝是發(fā)展的必然趨勢。

  在晶圓代工廠領(lǐng)域,臺積電的3D封裝技術(shù)一馬當(dāng)先,早在2008年底臺積電就成立導(dǎo)線與封裝技術(shù)整合部門,正式進(jìn)軍封裝領(lǐng)域。據(jù)悉,臺積電的3D封裝工藝主要分為前端芯片堆疊SoIC技術(shù)和后端先進(jìn)封裝CoWoS和InFO技術(shù)。

  英特爾則是在2018年推出了3D堆疊封裝技術(shù)“Foveros”,第一代 Foveros于2019年在Lakefield芯片中推出。英特爾預(yù)測第三代Foveros Omni以及第四代Foveros Direc都將在2023年量產(chǎn)。

  三星在2020年8月公布了自家的3D封裝技術(shù)“X-Cube”,三星表示,這項(xiàng)技術(shù)將用于 5G、AI、AR、HPC(高性能計算)、移動和 VR 等領(lǐng)域。

  3D DRAM也正在路上

  目前,幾家存儲大廠也開始逐漸向3D DRAM邁進(jìn)。今年年初,BusinessKorea 報道稱,三星電子正在加速 3D DRAM 的研發(fā),已經(jīng)開始加強(qiáng)招聘人員等相關(guān)團(tuán)隊建設(shè)。

  此外,美光科技和 SK 海力士也在考慮開發(fā)3D DRAM。美光提交了與三星電子不同的 3D DRAM 專利申請,希望能在不放置單元的情況下改變晶體管和電容器的形狀。

  也有日本媒體報道稱,華為將在6月份舉行的 VLSI Symposium 2022上發(fā)表其與中科院微電子研究所合作開發(fā)的 3D DRAM 技術(shù)。

  Applied Materials和Lam Research等全球半導(dǎo)體設(shè)備制造商也在開發(fā)與3D DRAM相關(guān)的解決方案。

  結(jié)尾:

  在芯片從二維走向三維的過程中,出現(xiàn)了很多新技術(shù),這些新技術(shù)的出現(xiàn),不僅突破了某個行業(yè)內(nèi)的瓶頸,也促進(jìn)了半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的繼續(xù)創(chuàng)新。

  部分內(nèi)容來源于:中國科大圖書館:芯片的3D趨勢;IEEE電氣電子工程師:3D芯片技術(shù)顛覆計算的三種方式;黑科技觀察家:3D芯片的未來發(fā)展方向,構(gòu)建下一代3D芯片的技術(shù)一覽;半導(dǎo)體行業(yè)觀察:芯片,全面走向3D;祺芯半導(dǎo)體:芯片,全面走向3D


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