PI 新品發(fā)布 I 光束整形與偏轉 B-421 BIX雙相慣性驅(qū)動小型線性平臺,實現(xiàn)緊湊空間內(nèi)的精密定位與長期穩(wěn)定性

導語:現(xiàn)代高科技定位應用面臨長期定位穩(wěn)定性、納米級重復精度、緊湊型設計、狹小空間靈活配置等核心挑戰(zhàn)。即使是輕微偏差也可能導致功能失效。

  【 B-421 BIX小型線性平臺 】

普愛納米

  ——面向嚴苛高科技應用的精密穩(wěn)定定位系統(tǒng)

  現(xiàn)代高科技定位應用面臨長期定位穩(wěn)定性、納米級重復精度、緊湊型設計、狹小空間靈活配置等核心挑戰(zhàn)。即使是輕微偏差也可能導致功能失效。因此,對分辨率、穩(wěn)定性和集成能力提出了嚴苛要求。B-421 BIX小型線性平臺專為滿足這些技術需求而設計。

  狹窄空間內(nèi)的高精度

  采用雙相慣性驅(qū)動的小型線性平臺

  實現(xiàn)長期穩(wěn)定的納米級精密定位

  優(yōu)勢概覽

普愛納米

  出色精度

  最小位移:10nm

  穩(wěn)定性

  自鎖機構可實現(xiàn)長期高穩(wěn)定性定位

  適應性

  高有效載荷和驅(qū)動力

  節(jié)省空間,配置靈活

  緊湊型設計,易于堆疊,靈活實現(xiàn)多軸組合

  精密定位

  高分辨率和重復精度

  重要參數(shù)概覽

普愛納米

  最小位移:10nm

  尺寸:25×11mm(寬×高)

  行程范圍:13至33mm

  分辨率:6nm

  最大驅(qū)動力:2.5N

  最大有效載荷:

  0.5kg(X向運動);0.15kg(任意方向)

  便捷易用的PIMikroMove軟件

  精確的光束整形與偏轉

普愛納米

  現(xiàn)代高精度系統(tǒng)的成功,尤其依賴于光學元件的納米級精密穩(wěn)定定位。光束操控的典型需求包括:反射鏡、光闌和透鏡的長期定位,以及可重復光束偏轉的納米級精密對準。市場亟需結構緊湊并能靈活集成至多軸系統(tǒng)的納米級精密定位方案。這對半導體領域(例如套刻量測)以及顯微領域(例如TIRF和STED等超分辨顯微技術)的光束質(zhì)量控制尤為重要。

  【 應用:光束整形與偏轉 】

普愛納米

  光束整形與偏轉可精密定制光束,滿足半導體、顯微成像等高技術應用的需求。這些應用要求光學元件具有長期定位能力,并盡可能降低漂移。PI小型線性平臺采用雙相慣性驅(qū)動技術,提供高推力、高分辨率的精密定位及長期穩(wěn)定性,是嚴苛工業(yè)應用或顯微任務的理想選擇。其緊湊結構尤其適用于空間受限場景,而易于堆疊的特性則可靈活配置多軸系統(tǒng),滿足復雜定位需求。在半導體領域,光束整形與偏轉技術在晶圓的質(zhì)量控制環(huán)節(jié)尤為重要,例如套刻量測中的光闌精密定位。在顯微技術領域,它們可實現(xiàn)納米量級的光路精確調(diào)控,為全內(nèi)反射熒光(TIRF)和受激發(fā)射損耗(STED)等現(xiàn)代超分辨顯微技術提供核心支撐。

  采用壓電慣性驅(qū)動的線性平臺

  實現(xiàn)精準穩(wěn)定的光束操控

  主要特點

  最小位移僅10nm,精度出眾

  自鎖機構可實現(xiàn)長期高穩(wěn)定性定位(無需電源)

  高分辨率和可重復性,實現(xiàn)納米級精密定位

  緊湊型設計,節(jié)省安裝空間

  易于堆疊,靈活實現(xiàn)多軸組合

  B-421 BIX小型線性平臺

  雙相慣性驅(qū)動技術

  最小驅(qū)動力:2.5N

  行程為13mm、23mm或33mm

  最大有效載荷:0.5kg(XY向運動);0.15kg(任意方向)

  便捷易用的PI軟件: PIMikroMove

  集成增量編碼器,分辨率高達6nm

  運動控制器E-881

  指令集: GCS 3.0

  USB和TCP/IP接口

  驅(qū)動程序集,可用于C、C++、C#、

  NI LabVIEW、MATLAB和Python等

  仿真器可用

  1個主動軸

  2路模擬輸入,4路數(shù)字輸入/輸出

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