半導(dǎo)體世界領(lǐng)先制造商之一意法半導(dǎo)體和法國(guó)電子信息技術(shù)實(shí)驗(yàn)室CEA-LETI宣布，法國(guó)經(jīng)濟(jì)、工業(yè)和就業(yè)部長(zhǎng)，以及國(guó)家和地區(qū)政府的代表、CEA-LETI和意法半導(dǎo)體的管理層，齊聚法國(guó)格勒諾布爾（Grenoble）市的Crolles分公司，共同慶祝Nano2012研發(fā)項(xiàng)目正式啟動(dòng)。IBM的代表也參加了啟動(dòng)儀式。IBM公司是意法半導(dǎo)體和CEA-LETI的重要合作伙伴，與雙方簽署了重要的技術(shù)開(kāi)發(fā)協(xié)議。 　　Nano2012是由意法半導(dǎo)體領(lǐng)導(dǎo)的國(guó)家/私營(yíng)戰(zhàn)略研發(fā)項(xiàng)目，聚集研究院和工業(yè)合作伙伴，得到法國(guó)國(guó)家、地區(qū)和本地政府的財(cái)政支持，旨在于創(chuàng)建世界最先進(jìn)的研發(fā)集群，開(kāi)發(fā)新一代納電子級(jí)別的半導(dǎo)體技術(shù)，用于制造結(jié)構(gòu)尺寸大約為幾十納米（1納米等于十億分之一米）的芯片。 　　通過(guò)為歐洲企業(yè)提供從32nm一直到22nm的最先進(jìn)的具有競(jìng)爭(zhēng)力的CMOS技術(shù)，Nano2012合作項(xiàng)目以及其它的世界領(lǐng)先的合作項(xiàng)目（如CATRENE）將對(duì)歐洲電子工業(yè)的持續(xù)增長(zhǎng)做出重大貢獻(xiàn)。Nano2012項(xiàng)目始于2008年1月1日，預(yù)定到2012年12月31日告一段落，法國(guó)政府機(jī)構(gòu)為這個(gè)五年期項(xiàng)目提供部分資金。這個(gè)項(xiàng)目還有其它的參與者，包括INRIA（法國(guó)國(guó)家計(jì)算機(jī)科學(xué)與控制研究院）、CNRS（國(guó)家科研中心）、大學(xué)和多家中小企業(yè)。 　　意法半導(dǎo)體和CEA-LETI有很長(zhǎng)的研發(fā)合作歷史。1992年，雙方首次合作建立Crolles研發(fā)中心。作為領(lǐng)先的研究實(shí)驗(yàn)室，CEA-LETI是學(xué)術(shù)研究與以市場(chǎng)為導(dǎo)向的意法半導(dǎo)體工業(yè)研發(fā)之間長(zhǎng)期的重要交流橋梁。2007年7月，意法半導(dǎo)體加入以IBM公司在紐約East Fishkill和 Albany的兩個(gè)研發(fā)中心為核心的半導(dǎo)體合作開(kāi)發(fā)聯(lián)盟，這兩個(gè)中心開(kāi)發(fā)32到 22nm的低功耗CMOS核心制程。同時(shí)IBM加盟意法半導(dǎo)體的Crolles研發(fā)中心，開(kāi)發(fā)增值專用CMOS衍生技術(shù)。此外，在CMOS技術(shù)所需的材料和制程開(kāi)發(fā)方面，CEA-LETI和IBM具有強(qiáng)大的實(shí)力和互補(bǔ)性的專業(yè)知識(shí)，雙方在CEA-LETI的格勒諾布爾（法國(guó)）分公司、IBM的 East Fishkill工廠（紐約）、意法半導(dǎo)體的 Crolles分公司（法國(guó)）以及Albany NanoTech研究中心（紐約）合作開(kāi)發(fā) 22nm以及22nm以下的先進(jìn)制程。 　　自Nano2012項(xiàng)目于2008年1月啟動(dòng)以來(lái)，意法半導(dǎo)體和IBM交換Crolles和East Fishkill兩地的研究人員，并在多個(gè)項(xiàng)目上與CEA-LETI的研究人員開(kāi)展合作，包括32nm和28 nm CMOS核心制程和無(wú)線通信用45nm RF（射頻）衍生技術(shù)，和汽車電子與智能卡用65nm非易失性存儲(chǔ)器衍生技術(shù)。這些技術(shù)可降低現(xiàn)有通信設(shè)備、消費(fèi)電子、計(jì)算機(jī)和汽車電子的功耗，延長(zhǎng)電池使用時(shí)間，提高性能，為終端用戶提供更多功能和實(shí)用性。 　　Nano2012項(xiàng)目的工作重點(diǎn)是為低功耗的專用CMOS衍生技術(shù)開(kāi)發(fā)技術(shù)平臺(tái)。一個(gè)技術(shù)平臺(tái)包括把數(shù)十億支晶體管集成到一顆芯片內(nèi)所采用的制程，以及單元庫(kù)和利用這個(gè)制程高效設(shè)計(jì)尖端電路的設(shè)計(jì)方法。利用在Crolles和格勒諾布爾的世界一流的研發(fā)團(tuán)隊(duì)，意法半導(dǎo)體及合作伙伴已位居這個(gè)領(lǐng)域的世界前列，Nano2012的重要目標(biāo)之一是擴(kuò)大歐洲在此一領(lǐng)域的領(lǐng)先地位。 　　增值專用衍生技術(shù)是標(biāo)準(zhǔn)CMOS技術(shù)的重要差異化技術(shù)，使位于Grenoble-Isere的研發(fā)集群在這個(gè)領(lǐng)域保持領(lǐng)先水平是Nano2012項(xiàng)目的另一重要目標(biāo)。 關(guān)于CEA-LETI 　　CEA是法國(guó)的一家國(guó)有科研機(jī)構(gòu)，主要從事下面三個(gè)領(lǐng)域的研究活動(dòng)：能源、信息和保健技術(shù)以及國(guó)防與安全。CEA的電子和信息技術(shù)實(shí)驗(yàn)室（LETI）與多家企業(yè)合作，通過(guò)技術(shù)創(chuàng)新和輸出提高企業(yè)的競(jìng)爭(zhēng)力。LETI主攻微電子和納電子技術(shù)及其應(yīng)用，例如，無(wú)線元器件和系統(tǒng)、生物和保健技術(shù)或光電產(chǎn)品。納電子技術(shù)和微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）是其核心業(yè)務(wù)。作為MINATEC卓越中心的一個(gè)主要成員，LETI擁有8,000 m² 的先進(jìn)的無(wú)塵室，采用24/7模式以及 200 mm 和300 mm晶圓標(biāo)準(zhǔn)。LETI擁有1,200名員工，培訓(xùn)150多名博士生，為合作伙伴代培200名技術(shù)人員。以為半導(dǎo)體工業(yè)創(chuàng)造價(jià)值為己任，LETI特別重視知識(shí)產(chǎn)權(quán)，擁有1,400多個(gè)專利組合。2008年合同收入達(dá)2.1億歐元，沖銷75%以上的預(yù)算支出。詳情請(qǐng)?jiān)L問(wèn)www.leti.fr. 關(guān)于意法半導(dǎo)體 　　意法半導(dǎo)體是全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體解決方案提供商，為各種應(yīng)用領(lǐng)域的電子設(shè)備制造商提供創(chuàng)新的解決方案。憑借公司掌握的大量技術(shù)、設(shè)計(jì)能力和知識(shí)產(chǎn)權(quán)組合、戰(zhàn)略合作伙伴關(guān)系和制造實(shí)力，意法半導(dǎo)體矢志成為多媒體融合和功率應(yīng)用領(lǐng)域無(wú)可爭(zhēng)議的行業(yè)領(lǐng)袖。2008年，公司凈收入98.4億美元。詳情請(qǐng)?jiān)L問(wèn)意法半導(dǎo)體公司網(wǎng)站 www.st.com 或意法半導(dǎo)體中文網(wǎng)站 www.stmicroelectronics.com.cn