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尼康推出世界上第一臺45納米曝光能力浸入式掃描儀

時間:2007-03-05

來源:網絡轉載

導語:該系統(tǒng)旨在大量生產45納米儀器,還可以被用來開發(fā)32納米儀器和雙圖形儀器。

尼康公司(總裁Michio Kariya)已推出世界上第一個浸沒式光刻系統(tǒng),其曝光結果達到了45 nm NSR-S610C,具有該行業(yè)最高投影透鏡數(shù)值孔徑(1.30NA) 的ArF浸沒式掃描儀已被運送到IC生產商。該系統(tǒng)旨在大量生產45納米儀器,還可以被用來開發(fā)32納米儀器和雙圖形儀器。之所以在激烈的競爭中選擇NSR-S610C是因為其早期市場推廣和尼康所歷經考驗的硅片無缺陷及其與干式系統(tǒng)相似的套準精度打印浸沒式底片的能力。 尼康精密設備公司總裁Kazuo Ushida說:“2006年是尼康浸沒式項目最有成就的一年”?!耙辉路?,我們運送了世界上第一批浸沫系統(tǒng):NSR-S609B。一年里,通過演示我們在浸沫領域的領導者水平,與競爭對手產品的直接比較,在許多方面我們已取得了勝利。通過一年的奮斗,與客戶一起評估, 我們確保了主要IC制造商業(yè)務。NSR-S610C的運送更加鞏固了我們在浸入技術方面的領導者地位?!? NSR-S610C是建立在尼康浸沫專業(yè)技術之上的。尼康局部填充技術能夠消除掃描導致的浸沒缺陷、氣泡、水漬或晶圓背部玷污。該項技術還能消除浸沒液體的蒸發(fā),從而有力于防止由浸液導致的套準問題。尼康的Tandem Stage采用具有不同功能的雙工件臺提高產能,精度以及長期穩(wěn)定性。
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